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光催化和生物净化设备

光催化是常温深度反应技术。 光催化氧化可在室温下将水、空气和土壤中有机污染物完全氧化成无毒无害的产物，而传统的高温焚烧技术则需要在极高的温度下才可将污染物摧毁，即使用常规的催化、氧化方法亦需要几百度的高温。

从理论上讲，只要 半导体吸收的光能不小于其带隙能，就足以激发产生电子和空穴，该半导体就有可能用作光催化剂。常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。这些催化剂各自对特定反应有突出优点，具体研究中可根据需要选用，如CdS半导体带隙能较小，跟太阳光谱中的近紫外光段有较好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，废气净化装置公司，但它容易发生光腐蚀，使用寿命有限。相对而言，Ti02的综合性能较好，工业废气净化装置，是广泛使用和研究的单一化合物 光催化剂。

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废气处理装置处理废气常用的方法有吸附法、吸收法、催化燃烧法、热力燃烧法等。 选用净化方法时，应根据具体情况由县选用费用低、耗能少、无二次污染的方法，尽量做到化害为利，充分回收利用成分和余热。 多数情况下，石油化工业因排气浓度高，采用冷凝、吸收、直接燃烧等方法;涂料施工、印刷等行业因排气浓度低，采用吸附、催化燃烧等方法。

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活性炭吸脱附与催化燃烧组合工艺　　

活性炭吸附与催化燃烧，两者除了可以单独使用外，也可以组合使用。组合使用主要利用两者之间具有互补性的特点：活性炭吸附适用于大风量、低浓度废气，催化燃烧适用于小风量、高浓度废气，且活性炭在高温下被吸附的有机物能够脱附出来。从另一个角度看，廊坊废气净化装置，此组合工艺可视为活性炭的现场再生利用工艺，既减少了活性炭吸附饱和后的更换处置成本，同时定期的浓缩脱附也避免了因活性炭吸附饱和未及时更换造成的超标排放风险。

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